目前中國已成為了全球最大的電子產品生產消費市場，對半導體產品的需求大。2019年，中國大陸地區的半導體銷售額占全球的35%，且銷售額的增速持續高于國際市場，中國已經成為全球最具活力和前景的半導體產品市場。2019年第四季度以來全球半導體行業逐漸復蘇，產業開啟了新一輪的補庫存周期，因此2020年第一季度國內半導體行業表現良好，1月、2月的半導體銷售額分別同比增長5.2%、5.5%，第一季度的集成電路產量同比大幅增長16%。

    智研咨詢發布的《2020-2026年中國半導體清洗設備行業市場經營管理及競爭策略建議報告》數據顯示：2015年全球半導體清洗設備市場規模為26億美元，預計2020年將達37億美元，復合增長率為7%。預計中國大陸地區每年的濕法清洗設備的空間在15-20億美元，到2023年清洗機的國產化率可達40%-50%，即國產設備的市場空間在40-70億元；且預計未來12寸晶圓的槽式和單片式清洗設備將是市場的主要增量。其中單片式清洗機領域公司有望成為少數幾家具備核心技術的國產設備商。

    清洗為半導體制程重要環節，是影響器件成品率及可靠性最重要的因素之一。為減少雜質對芯片良率的影響，實際生產中不僅需要提高單次清洗效率，還需要在幾乎所有制程前后都進行頻繁的清洗，清洗步驟約占整體步驟的1/3。
   
   集成電路制程升級，清洗環節重要性日益凸顯。隨著半導體芯片工藝技術的發展，工藝技術節點進入28納米、14納米等更先進等級，工藝流程不斷延長且越趨復雜，產線成品率也會隨之下降。造成這種現象的一個原因就是先進制程對雜質的敏感度更高，小尺寸污染物的高效清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟，晶圓清洗將變得更加復雜、重要及富有挑戰性。

   按照清洗原理來分，清洗設備可分為干法清洗設備和濕法清洗設備。濕法工藝是指使用腐蝕性或氧化性較強的溶劑進行噴霧或擦洗，使硅表明的雜質與溶劑發生化學反應，生成可溶性物質或氣體，從而將晶圓表明的顆?；蚱渌饘匐x子清洗掉。干法工藝指不使用化學試劑的清洗技術，包含等離子清洗、氣相清洗等。在實際生產過程中一般將兩種方法結合使用，目前90%以上的清洗步驟以濕法設備為主，少部分特定站點使用干法清洗來提高清洗效率。至純科技主要生產濕法清洗設備。

   目前中國市場主要濕法設備廠商以日本和歐美為主，本土設備商主要有至純科技、北方華創和盛美半導體，但三家合計市場份額不到10%。目前來看，盛美半導體目前主要產品是單片式清洗設備，至純科技的單片式清洗設備正在客戶驗證階段，北方華創和至純科技目前仍主要以槽式清洗為主，三者核心產品存在差異，正面競爭較少。

    中國國內的半導體清洗設備的主要廠家有三家，體量都不大，分別是盛美半導體，北方華創和至純科技。盛美股份2019年收入為7.57億元，凈利潤為1.35億元。產品主要是單片式清洗設備，占比總收入的72.81%，槽式清洗機設備占比總收入的6%。北方華創主要清洗設備產品為單片及槽式清洗設備，可適用于技術節點為65nm、28nm工藝的芯片制造。其中，北方華創自有低端的單片清洗設備，并通過收購美國Akrion實現了槽式清洗設備的國產化。北方華創2019年收入40.58億元，凈利潤3.09億元。清洗機業務大約占比北方華創總收入的5%左右。盛美半導體在國內半導體清洗行業單片式領域市占率為第一。產品線最為豐富，具有顯著技術優勢。其SAPS、TEBO技術使兆聲波能量均勻分布在晶圓上，避免其對晶圓電路的損害，同時又提高了清洗效果。北方華創和至純科技主要以槽式清洗為主，至純科技的單片式清洗設備正在客戶驗證階段，目前三者核心產品存在差異，正面競爭較少。至純科技是單片式清洗機的后進入者，但團隊技術實力強。目前在國內市場，各晶圓代工廠主要產線依舊集中在14nm以上，至純科技剛切入單片式領域，主要是定制個性化單片式清洗設備，目前足以滿足各代工廠的需求。
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  上海卯林機電設備有限公司是美國Teledyne Api品牌臭氧產品中國區總代理。

   470水中臭氧傳感器是最先進的溶解臭氧測量模塊，為半導 體濕法處理和許多其他工業過程設計。它能 夠提供去離子水或硫酸中濃度高達150mg/L 的溶解臭氧測量。470已完成“預備清潔”， 能夠滿足高純度半導體過程的需求，并且可 簡單的直接拼接進任何濕法處理的環流回路 中，最高支持150 SLPM的流量。 470型傳感器使用雙路取樣傳感技術，達到 了無與倫比的性能，且擺脫了對參比液體測 量的需求。 通常的安裝僅僅包括470傳感器和特氟龍7包 裹的內部連接電纜。470傳感器能夠通過模 擬或數字信號向濕法處理過程控制臺遠程報 告測量的濃度。
 
 技術指標
測量原理 ：紫外吸收法，雙路取樣傳感技術
紫外光源 ：低壓汞燈 
測量單位 ：ppmw, mg/L 

• 現場檢測
• 在線且全流量監測
• 直線通過的流型
• 無移動部件
• 無消耗品
• 測量范圍最高達150 mg/L
• 遠程零點校準
• 高精度紫外吸收法
• 雙光道采樣感應技術
• 不需求日常維護
• 半導體級別濕式材料
• 緊湊的特氟龍外殼
• 特氟龍7包裹的內部連接電纜

• 液態溶解臭氧
• 半導體濕法清洗系統
• 超純水系統
• 制藥業
• 水處理
• 其他工業過程